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    从华芯国际生产车间中偷偷摸出来的光刻机，是193nmarf光源的干式光刻机，生产的半导体工艺节点最多可以达到45/40nm。

    但阿斯麦尔采用的浸没式技术，和激进的可制造性设计（dfm）等技术后，可以将工艺制程迈进22nm以内，甚至通过多重曝光等技术，可以达7nm的工艺！

    7nm，那已经相当于江成前世用的麒麟980、985的技术。

    至于技术，其实也并不复杂。

    通过在原有的193nm光刻机系统当中增加浸没单元，利用超纯水替换透镜和晶圆表面之间的空气间隙。

    因为超纯水在193nm波长时的与空气的折射率1.44：1，故而让光源进入后波长缩短，从而提升光刻分辨率。

    不过超纯水这些东西，江成并不确定自己能否模拟出来。

    体内电脑模拟的出来的，主要是电子设备或是能够运行电子的材料。

    其他塑料、非金属材料，更多是模了一个样子，并没有实际用处。

    江成尝试了一下，将手指伸到自来水处。

    释放生物电流。

    然而，没有任何反应。

    江成估计超纯水这样的液体，也无法进行模拟。

    但江成却又有了想法。

    超纯水咱搞不了，但在体内电脑里头，咱们的权限是超级大的啊！

    这可不像是在外界的实体设备，无法轻易调整。

    江成可以自由调整和修改各类材料、各类电路。

    甚至光刻机的光源激发设备，江成也觉得可以尝试一下调整调整嘛。

    谁让你模拟进来实验室了呢？

    在这实验室里头，所有的东西都是模拟出来的，一切由江成做主。

    不就是要降波长嘛，就是没有超纯水，咱也照样盘他！


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